分光エリプソメーター
J.A.Woollam製分光エリプソメーター用温度制御ステージ（オプション）
| ヒートステージ，クライオスタットで温度制御して，温度範囲：-70〜600℃の低温測定〜高温測定に対応します． |
J.A.Woollam製分光エリプソメーター用In-Situ測定（オプション）
| RC2 / M-2000の光学モジュールを直接プロセスチャンバーに取り付けることで，膜厚や光学定数をリアルタイムで測定できます． |
J.A.Woollam製分光エリプソメーター用特注SPRプリズムステージ
| J.A.Woollam社製分光エリプソメーター RC2 / M-2000シリーズ用に開発されたSPRプリズムステージです．RC2 / M-2000シリーズの標準ステージに装着して使用します．着脱可能ですので，通常の分光リプソメトリー測定の使い勝手を損ないません． RC2 / M-2000シリーズを規格外の光学配置で使用したい場合，専用設計の分光エリプソメーター架台・光軸調整機構・ステージ類などが必要になります．テクノシナジーは，分光エリプソメーターの性能を最大限に引き出すことができる専用ステージの設計・製作が可能です． |
J.A.Woollam製分光エリプソメーター用特注透過ステージ
| J.A.Woollam社製分光エリプソメーター RC2 / M-2000シリーズ用に開発された透過吸着ステージです．透明板状サンプルのレターデーション測定に最適です． RC2 / M-2000シリーズを規格外の光学配置で使用したい場合，専用設計の分光エリプソメーター架台・光軸調整機構・ステージ類などが必要になります．テクノシナジーは，分光エリプソメーターの性能を最大限に引き出すことができる専用ステージの設計・製作が可能です． |
J.A.Woollam製分光エリプソメーター用特注反射回転ステージ
| J.A.Woollam社製分光エリプソメーター RC2 / M-2000シリーズ用に開発された真空吸着サンプル面板・あおり調整用αβ傾斜ステージ付きの回転ステージです． RC2 / M-2000シリーズを規格外の光学配置で使用したい場合，専用設計の分光エリプソメーター架台・光軸調整機構・ステージ類などが必要になります．テクノシナジーは，分光エリプソメーターの性能を最大限に引き出すことができる専用ステージの設計・製作が可能です． |
J.A.Woollam製分光エリプソメーター用特注架台
| J.A.Woollam社製分光エリプソメーター RC2 / M-2000シリーズ用に開発された赤外線加熱炉で加熱した高温状態のサンプルの光学定数スペクトルを求めるための専用架台です． RC2 / M-2000シリーズを規格外の光学配置で使用したい場合，専用設計の分光エリプソメーター架台・光軸調整機構・ステージ類などが必要になります．テクノシナジーは，分光エリプソメーターの性能を最大限に引き出すことができる専用架台の設計・製作が可能です． |
